高純石墨塊生產(chǎn)廠家在填好填充料的毛坯下方，通入石墨管，用以導(dǎo)入鹵素氣體。在填充焦炭比較松散的部分，可使氣體均勻分布。揮發(fā)掉的鹵化物，從C部分上升到爐子的上方，通過(guò)爐子上的風(fēng)斗，被送入洗滌器，洗凈后排人大氣。在凈化工序中，溫度對(duì)凈化效果的影響最為顯著，盡管氣體分布是均勻的，但凈化溫度與時(shí)間的關(guān)系如果不適當(dāng)，也同樣不能提高凈化效果。用氣體凈化時(shí)的溫度和硼含量的關(guān)系示于圖。

反應(yīng)堆用石墨的純度，一般以化學(xué)分析法測(cè)定。這雖是廣為應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)方法，但石墨中混入極微量的雜質(zhì)，也會(huì)使中子吸收截面發(fā)生委化，所以還有利用反應(yīng)堆非破壞性地測(cè)定試料的綜合純度的方法。最初用Hanford305試最推（語(yǔ)），所開(kāi)創(chuàng)的方法是用倒時(shí)差（DIH1)表示的，這就是把標(biāo)準(zhǔn)純度的試片置于試驗(yàn)推的中心部位，測(cè)出到達(dá)臨界點(diǎn)的時(shí)間，并把測(cè)得時(shí)間的倒數(shù)作為4，然后把和標(biāo)準(zhǔn)試片同一尺寸的未測(cè)片放入測(cè)定，求出到達(dá)臨界點(diǎn)的時(shí)間（1)，求出的倒數(shù)d。d、d兩者之差為DIH。即：

0H =d-4.(=+-1)

財(cái)為正值，而且此值越大，表示其純度比標(biāo)準(zhǔn)試料越高。以高純石墨塊生產(chǎn)廠家作為標(biāo)準(zhǔn)試料時(shí)，D1與化學(xué)分析值的對(duì)應(yīng)關(guān)類系見(jiàn)表3i0。7和吸收截面。.之間成直線關(guān)系。對(duì)上述試驗(yàn)堆（HTR）的熱中子(200mw/s），每個(gè)碳原子的平均吸收截面和DIH之間的關(guān)系可用下式某示。g.(2000m/s)=(4.47±0.04-0.733D/740.03）×0.1kPa。高純石墨塊生產(chǎn)廠家的兩種

堆用石墨的測(cè)定結(jié)果見(jiàn)表。

此外，純度對(duì)熱中子擴(kuò)散距離L（表示中子由被減速變成熱中子到被吸收所移動(dòng)的平均距離的量度）有很大影響，所以在石墨塊一端插入的中子源釋放出的中子在石墨內(nèi)的分布，用鋼放射化等方法即可測(cè)定，所測(cè)得的分布情況，利用初等擴(kuò)散理論代入給定的公式，確定必要的系數(shù)，求出L之后，即可得出純度的指標(biāo)。

'=1/[3Ea·Es(1-A)]

且

L=√D/Ea=(A/dNo)·√1/[3o.(1-u.)I·1/o.

式中，Ea=dNo·o./A(宏觀吸收截面)；Es=dNo·a，/A(宏觀散射截面)；A。=2/3A(散射角余弦的平均值)；D=1/[3-(1-μ。）Es](擴(kuò)散系數(shù)）；A為原子核質(zhì)量（石墨為12.01）；No為阿伏伽德羅數(shù)(6.024×10）；o，為微觀散射截面[石墨為（4.7±0.2）×0.1MPa]；o。為微觀吸收截面；d為石墨的密度。核反應(yīng)堆用石墨的一般特性示于表。在日本，JIS標(biāo)準(zhǔn)給堆用石墨制定了等級(jí)，示于表。材料的試驗(yàn)，根據(jù)JISR7222(高純炭材料的物理試驗(yàn)方法）和JISR7223(高純炭材料的化學(xué)分析法)所定方法進(jìn)行。

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